洁净室中工业除湿机的湿度控制

洁净室中工业除湿机的湿度控制

洁净室的发展与现代工业、尖端技术密切联系在一起。由于精密机械工业（如陀螺仪、微型轴承等加工）、半导体工业（如大规模集成电路生产）等对环境的要求，促进了洁净室技术的发展。

洁净室的湿度控制

洁净室是控制污染的工作场所。

据称洁净室为环境污染物（如尘埃，气载微生物，气溶胶颗粒和化学蒸气）提供了一个有利环境（用于研究，开发和制造设备或工艺）。

随着对质量检测和控制的日益重视，对缺陷的零容忍和严格的生产实践，洁净室的需求增加了多方面。洁净室现在被设计成特殊构造的封闭区域，对空气中的颗粒物，温度，湿度，气压流动模式，空气运动，振动，噪音和有生命的生物体进行环境控制。

洁净室的主要应用领域是电子工业，制药，航空航天，汽车，信息技术和其他需要更严格制造条件的其他领域。洁净室的应用范围广泛，从制造微型小组件，电子设备和仪器到日益需要更多的药品，食品和无菌无菌环境中的医疗和生物应用的无菌性和纯度。

污染物可以来自各种各样的来源：空气（其清洁程度根据洁净室的类别和灰尘等级来定义），水，化学物质，物理植物本身和人员。

不受控湿度的影响

微生物生长和腐蚀

工作表面上的冷凝导致计划延迟和产品质量较差

污染导致产品变质

不受控湿度的原因

半导体和制药无尘室高湿度的例子

半导体洁净室

微电路和微芯片制造需要称为光刻胶的吸湿聚合物来掩盖用于蚀刻工艺的电路线。由于它们的吸湿性，它们吸收水分，因此微观电路线被切断或桥接，导致电路故障。另外，在半导体制造中，当晶片制造区域中的湿度水平波动时，会出现许多问题。烘烤时间通常会增加，整个过程通常变得更难以控制。高于35％RH的湿度会使组件容易受到腐蚀。此外，随着显影剂溶剂喷洒到晶片上，溶剂迅速蒸发，冷却晶片足以冷凝空气中的水分。这种额外的水可以改变显影剂特性并被吸收到半导体层上。这可能会导致膨胀和产品质量问题，从而需要额外的过程控制。

制药洁净室

在制药生产设施中，高湿度会使细粉吸收水分，阻塞粉末进入压片机。由吸湿引起的粉末不一致导致崩溃的片剂和堵塞的片剂模具。湿度变化意味着难以调整床温和喷雾速率，导致热损伤和湿气侵入。此外，空气管道中的湿度会造成潮湿的地方，细菌菌落生长并引起过程污染。

一般建议

干净室内的相对湿度应控制在35-40％RH（这是工艺要求的一个函数），用于全年运行。在低于20°C（70°F）的温度下，这些RH水平通常保持在±2％RH的窄带内。

工业除湿机解决方案

工业除湿机可将露点始终保持在非常低的水平，如（ - ）60°C（空气湿度的歧管减少），远远超过标准HVAC制冷系统所能达到的水平。